在這些領(lǐng)域，光纖光譜儀的運(yùn)用非常頻繁：

　　1、LED測量

　　簡單而且迅速地測量LED的整個(gè)光通量的方法就是使用一個(gè)積分球，并把它連接到一個(gè)美國海洋光學(xué)公司的光譜儀上。該系統(tǒng)可以用鹵素?zé)暨M(jìn)行定標(biāo)（LS-1-CAL-INT），然后用廣州標(biāo)旗軟件從測量到的光譜分布計(jì)算出相關(guān)參數(shù)，并實(shí)現(xiàn)輻射量的測量。所測光源的光譜發(fā)光強(qiáng)度還可以用μW/cm2/nm來計(jì)算、顯示并存儲(chǔ)。另外的窗口還可以顯示大約10個(gè)參數(shù)：輻射量μW/cm2, μJ/cm2, μW或μJ；光通量lux或lumen，色軸X, Y, Z, x, y, z, u, v和色溫。

　　2、發(fā)射光譜測量

　　發(fā)射光譜測量可以用不同的實(shí)驗(yàn)布局和波長范圍來實(shí)現(xiàn)，還要用到余弦校正器或積分球。發(fā)射光譜測量可以在紫外/可見和可見/近紅外波長范圍內(nèi)測量。

　　對(duì)于發(fā)射光譜的測量，光譜儀可以配置成波長范圍從200-400nm或350-1100nm，或組合起來實(shí)現(xiàn)紫外/可見200-1100nm，并可以在海洋光學(xué)公司的定標(biāo)實(shí)驗(yàn)室里進(jìn)行輻射定標(biāo)。定標(biāo)后的實(shí)驗(yàn)布局不能改變，如光纖和勻光器都不能更改。

　　3、薄膜厚度測量

　　光學(xué)的膜厚測量系統(tǒng)基于白光干涉測量原理，可以測量的膜層厚度10nm-50μm，分辨率為1nm。薄膜測量在半導(dǎo)體晶片生長過程中經(jīng)常被用到，因?yàn)榈入x子體刻蝕和淀積過程需要監(jiān)控；其它應(yīng)用如在金屬和玻璃材料基底上鍍透明光學(xué)膜層也需要測量膜層厚度。